Dienstag, 22. September 2009

Graphit für die Flash-Herstellung

Es ist die permanente Herausforderung und allgegenwärtige Fragestellung in der Halbleiterindustrie: Wie macht man Chips, die bereits eine hohe Speicherkapazität aufweisen und schon sehr kompakt sind, noch kompakter und leistungsfähiger?

Derzeit sind Nanotubes und Graphen (einatomige Kohlenstoffschichten) im Gespräch, jedoch wird diese Technologie noch etwas auf sich warten lassen. Der intermediäre Technologieschritt könnte die Nutzung von Graphitschichten sein. Ein kurzes Zitat über die Funktionsweise:

Zwischen zwei Elektroden befindet sich eine Graphit-Schicht auf einem Silizium-Substrat. Legt man eine Spannung an, bildet sich im Graphit ein Riss – und dieser wird für die Darstellung von Bitwerten ausgenutzt. Ein Riss bedeutet eine "1", die glatte Schicht stellt eine "0" dar. Ob ein Riss vorliegt, können die Forscher mit einer niedrigeren Spannung ermitteln. Überschrieben wird er mit einer höheren Spannung, die ihn glättet und zum Verschwinden bringt.


Artikel: http://www.heise.de/newsticker/Graphit-fuer-die-Flash-Herstellung--/meldung/145588

Dan

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